TechMap Live › حسب الدولة › الولايات المتحدة

الرقاقات والعتادالأثر: مرتفع

إنتل يحقق إنجازًا مع الليثوغرافيا EUV عالية NA من ASML

· Hillsboro, Oregon، الولايات المتحدة · الأمريكتان · خارج النافذة الزمنية النشطة

يستخدم إنتل مسح ASML من الجيل التالي عالي NA EUV في التصنيع بكميات كبيرة، مما يمثل إنجازًا في تصنيع أشباه الموصلات بأقنعة أكبر وزيادة إنتاج الرقائق.

تُرجم هذا الملخص آليًا. النص الإنجليزي الأصلي هو المرجع. عرض النص الإنجليزي الأصلي.

الموضوع
الرقاقات والعتاد
الموقع
Hillsboro, Oregon، الولايات المتحدة (45.523°, -122.677°)
المنطقة
الأمريكتان
الأثر
مرتفع
نقلًا عن
Golem.de
عرض هذا الحدث على الخريطة المباشرة → كل الأحداث في الولايات المتحدة →

أُنشئت هذه الصفحة آليًا في TechMap Live اعتمادًا على تقرير إخباري عام نشره Golem.de. الإحداثيات ودرجة الأثر تقديرية — يُوضع الحدث عادةً عند مقر الشركة أو منصة الإطلاق. هذا تجميع لتغطية إخبارية، لا صحافة أصلية — اقرأ التقرير الأصلي قبل الاعتماد عليه.

أحداث تقنية في الولايات المتحدة

أحدث الأحداث