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Puces et matérielimpact : élevé

Intel atteint un jalon avec la lithographie EUV High-NA d'ASML

· Hillsboro, Oregon, États-Unis · Amériques · hors de la fenêtre active

Intel utilise le scanner EUV High-NA de nouvelle génération d'ASML dans la fabrication en volume, marquant un jalon dans la fabrication de semi-conducteurs avec des masques plus grands et une production accrue de plaquettes.

Ce résumé a été traduit automatiquement. La version anglaise fait foi. Voir l'original en anglais.

Sujet
Puces et matériel
Lieu
Hillsboro, Oregon, États-Unis (45.523°, -122.677°)
Région
Amériques
Impact
élevé
Signalé par
Golem.de
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Cette page a été générée automatiquement par TechMap Live à partir d'un signalement de presse public publié par Golem.de. Les coordonnées et le niveau d'impact sont des estimations — un événement est généralement placé au siège de l'entreprise ou sur le pas de tir. Il s'agit d'une agrégation de couverture médiatique, pas de journalisme original — lisez le signalement d'origine avant de vous y fier.

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