TechMap Live › По странам › Соединенные Штаты

Чипы и оборудованиезначимость: высокая

Intel достигает вехи с литографией High-NA EUV от ASML

· Hillsboro, Oregon, Соединенные Штаты · Америка · уже вне активного окна

Intel использует сканер High-NA EUV следующего поколения от ASML в массовом производстве, что является вехой в производстве полупроводников с более крупными масками и увеличенным производством пластин.

Это описание переведено автоматически. Оригинал на английском языке имеет преимущественную силу. Открыть оригинал на английском.

Тема
Чипы и оборудование
Место
Hillsboro, Oregon, Соединенные Штаты (45.523°, -122.677°)
Регион
Америка
Значимость
высокая
Источник сообщения
Golem.de
Показать это событие на карте → Все события: Соединенные Штаты →

Эта страница создана автоматически сервисом TechMap Live по открытому новостному сообщению издания Golem.de. Координаты и оценка значимости приблизительные — событие обычно отмечено в штаб-квартире компании или на стартовой площадке. Это агрегатор новостей, а не собственная журналистика: прежде чем на что-то опираться, прочитайте первоисточник.

Технологические события: Соединенные Штаты

Последние события