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芯片与硬件影响：高

Intel使用ASML的High-NA EUV光刻技术实现里程碑

· Hillsboro, Oregon，美国 · 美洲 · 已不在活动时间窗内

Intel在大规模生产中使用ASML的下一代High-NA EUV扫描仪，标志着半导体制造的里程碑，采用更大的光罩和增加的晶圆生产。

本摘要由机器翻译生成，英文原文为准。 查看英文原文.

主题
芯片与硬件
地点
Hillsboro, Oregon，美国 (45.523°, -122.677°)
地区
美洲
影响
高
报道来源
Golem.de
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